北京大学引入埃纳膜iCVD设备 开启有机纳米材料新篇章
2024年7月，埃纳膜科技的iCVD（引发式化学气相沉积，型号：iCV-RME16）设备正式交付北京大学材料学院，并完成调试，投入使用。作为北京大学首台iCVD设备，标志着我国在纳米级有机材料制备及应用领进入新的阶段，为新型纳米器件的开发及基础科学研究提供了关键支撑。
北京大学材料学院长期致力于新型材料的合成与器件化应用，此次引入国产iCVD设备进一步推进有机纳米材料在半导体领域的发展。
产学研协同突破”卡脖子”难题
此次合作实现了设备工艺与科研需求的深度适配，埃纳膜将持续优化智能控制系统，推动iCVD技术标准化和产业化。